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　　近日，坐落于杭州城西科創(chuàng)大走廊浙大成果轉化基地的全國首臺國產商業(yè)電子束光刻機 “羲之”，已進入應用測試階段，其精度達到 0.6 納米，比肩國際主流設備，標志著量子芯片研發(fā)有了 “中國刻刀”。

　　與常用的 EUV 光刻機不同，“羲之” 以高能電子束為 “筆”，直接在硅基芯片上 “手寫” 電路圖案，無需掩膜版，如同藝術家精雕細琢;而 EUV 光刻機則利用極紫外光，通過掩膜版投影，像工業(yè)流水線般實現(xiàn)整片晶圓的快速曝光。

　　性能方面，“羲之” 精度達 0.6 納米，線寬 8 納米，遠超 EUV 主流設備，但每加工一片晶圓需耗費數小時，效率遠低于 EUV 光刻機每小時上百片的產出。

　　應用場景上，“羲之” 專注于高精度、小批量需求，如量子芯片原型、先進封裝等，能大幅縮短國內企業(yè)和機構的芯片研發(fā)迭代周期，且設備價格比國際同行低 30%，還省去掩膜版成本;EUV 光刻機則擅長 CPU、存儲芯片等大規(guī)模消費產品制造。

　　長期以來，歐美壟斷高端光刻設備，“羲之” 的誕生打破了這一局面，為我國半導體研發(fā)提供自主可控的關鍵裝備，助力從實驗室到市場的轉化。未來，隨著多電子束技術發(fā)展，國產設備在先進封裝領域份額有望進一步提升，推動新能源車、AI 芯片等行業(yè)發(fā)展。

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